光刻机是半导体芯片生产过程中的关键设备。光刻机所使用的光源的波长直接决定了芯片的工艺水平。例如，最先进的芯片制造工艺（7nm5nm等）与EUV极紫外光刻机密不可分，并且该光刻机的唯一全球供应商是荷兰的ASML。最近，荷兰ASML首席财务官Roger Dassen在财务报告会议上的视频采访中谈到了与SMIC等中国客户的业务状况。罗杰·达森（Roger Dassen）表示，如果我们广泛了解美国针对ASML的法规（针对特定中国客户）的总体含义，则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供荷兰的DUV光刻系统，而无需获得出口许可证。但是，如果涉及直接从美国运送到此类客户的零件或系统，则ASML需要为此申请出口许可证。 21ic family指出，ASML最近宣布了其第三季度财务报告。在本季度，ASML总共交付了10台EUV系统，实现了14台系统的销售，总销售额达到40亿欧元。同时，第三季度的新订单达到29亿欧元，其中5.95亿欧元来自4辆EUV设备。财务报告还宣布了其两个系列的光刻机产品的最新发展。其中，在EUV光刻业务领域中，大多数TWINSCANNXE：3400B系统都已同时向客户升级了生产力模块。同时，ASML还发布了其EUV路线图上的最新模型：TWINSCANNXE：3600D。 EUV光刻机已实现每小时160片晶圆的30mJ / cm2的曝光能量，生产率提高了18％，并且得到了改善。该机器的雕刻精度达到1.1纳米。新的EUV光刻机预计将于2021年中期开始发货。在DUV光刻业务领域，ASML已于本季度完成了首款TWINSCANNXT：2050i的质量认证，并于第四季度初发货。 NXT：2050i是基于NXT平台的新版本，其中包括对标线片台，晶片台，投影物镜和曝光激光的技术改进。由于这些创新，该系统比其前身可以更好地控制雕刻精度，并具有更高的生产率。 NXT：2050i已进入量产阶段。资料来源：21ic王立英整理